【摘 要】
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光刻技术是半导体及其相关产业发展和进步的关键技术之一,传统光刻技术有着各自的缺点,结构复杂,分辨率受限于衍射极限。随着在应用中技术问题的增多,寻找解决技术障碍的新方
【机 构】
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光刻技术是半导体及其相关产业发展和进步的关键技术之一,传统光刻技术有着各自的缺点,结构复杂,分辨率受限于衍射极限。随着在应用中技术问题的增多,寻找解决技术障碍的新方案、找到下一代可行的技术路径,备受人们的关注。在这场技术竞赛中,纳米压印工艺得到人们的普遍关注,它的分辨率不受限于衍射极限,图形的均一性符合大生产的要求,使得人们看到找到纳米技术的突破口的可能。本文统计、分析了全球纳米压印工艺的专利申请文件,并通过相关重点专利对纳米压印工艺进行了分析介绍,继而针对纳米压印工艺的发展所遇到的关键技术挑战进行了归纳。
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