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为提高光学元件的面形精度，提高加工效率，对超精密气囊抛光方法的去除函数进行了理论和试验研究。通过分析气囊抛光的原理，以Preston方程为基础，应用运动学原理推导了气囊抛光“进动”运动的材料去除函数，利用计算机仿真的方法，得到近似高斯分布的去除函数，通过仿真分析几个主要参数对“进动”抛光运动去除特性的影响，总结得到三点气囊抛光工艺过程中重要的结论。通过在一台超精密气囊式智能抛光机上的试验对比，两者吻合很好，并得到面形精度RMS=0．0126μm的超精密的光滑表面，为开展气囊抛光的工艺研究提供了理论依据。