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化学束外延(CBE)的研究现状及其应用
化学束外延(CBE)的研究现状及其应用
来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhaoyu_hit
【摘 要】
:
化学速外延(CBE)是近三,四年才发展起来的一种新的外延生长技术,本文较系统地评述了CBE的研究现状,并在把CBE技术与MOCVD和MBE技术比较的基础上,着重介绍了CBE的原理和特点,
【作 者】
:
宋登元
【机 构】
:
河北大学电子系
【出 处】
:
半导体技术
【发表日期】
:
1990年1期
【关键词】
:
化学束外延
外延生长技术
半导体工艺
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化学速外延(CBE)是近三,四年才发展起来的一种新的外延生长技术,本文较系统地评述了CBE的研究现状,并在把CBE技术与MOCVD和MBE技术比较的基础上,着重介绍了CBE的原理和特点,最后介绍了它在制备化合物半导体薄膜和光电器件方面的和最新进展.
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