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该技术是由西安工业大学研究开发，利用物理气相沉积法实现薄膜镀制，与化学气相沉积法相比具有膜层性能稳定、在3．4um无吸收峰、方法简单且能在大面积基片上镀膜的优点．现可用于镀制类金刚膜、氮化钛、碳化钛、钼、钨、等膜，这些膜在光学、电子、表面改性、润滑、装饰等领域有广泛应用．
类金刚石红外增透膜、保护膜镀制技术
【摘 要】
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该技术是由西安工业大学研究开发，利用物理气相沉积法实现薄膜镀制，与化学气相沉积法相比具有膜层性能稳定、在3．4um无吸收峰、方法简单且能在大面积基片上镀膜的优点．现可用于镀
【出 处】
：
西安工业大学学报
【发表日期】
：
2008年5期
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会议
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