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FSI国际有限公司近日宣布，公司已成功地采用FSIViPRTM技术在自对准多晶硅化物形成后去除了未反应的金属薄膜。通过实现这一新的工艺，IC制造商可以在钴、镍和镍铂硅化物集成过程中，大幅度减少化学品的使用和降低对资金的要求。新订购的FSIZETA。Spray Cleaning System喷雾式清洗系统中已经采用了FSIViPR^TM技术，并将用于升级最近已经在生产现场安装的系统。