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用紫外-可见光谱仪研究了不同溅射功率下磁控溅射法在玻璃基上沉积掺氮二氧化钛膜的沉积速率和光学带隙.结果表明,随着溅射功率的增加,薄膜的沉积速率增加,吸收边波长红移,薄膜的光学带隙宽度减小.热处理温度对不掺氮二氧化钛薄膜的吸收边和光学带隙的影响较小.
用紫外-可见光谱仪研究玻璃基掺氮二氧化钛薄膜的沉积速率和光学带隙
【摘 要】
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用紫外-可见光谱仪研究了不同溅射功率下磁控溅射法在玻璃基上沉积掺氮二氧化钛膜的沉积速率和光学带隙.结果表明,随着溅射功率的增加,薄膜的沉积速率增加,吸收边波长红移,薄
【机 构】
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武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室
【出 处】
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分析仪器
【发表日期】
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2003年4期
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