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依据钨材料表面溅射的实验现象，建立钨材料表面粗糙模型，模拟了高能H^＋、He^＋粒子辐照下的钨材料表面的溅射行为过程，并与基于离子输运的双群模型计算得到的结果作了比较。结果表明，随着钨材料表面粗糙程度的增加，溅射率降低；对一定的粗糙表面，相同能量的不同入射粒子，质量越大粒子溅射率越高，这些结果为分析聚变装置中心等离子体杂质水平和评价偏滤器寿命等提供了一定的理论支撑。