【摘 要】
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光刻胶剥离制程为TFT-LCD制造Array基板的重要制程,剥离与洗净效果决定TFT产品质量。光刻胶残留是其主要不良。本文分析光刻胶残留的现象和成因,通过剥离设备的结构调整与保
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光刻胶剥离制程为TFT-LCD制造Array基板的重要制程,剥离与洗净效果决定TFT产品质量。光刻胶残留是其主要不良。本文分析光刻胶残留的现象和成因,通过剥离设备的结构调整与保养、工艺参数的优化来改善光刻胶残留。研究表明,通过优化技术人员作业手法,增大剥离区间流量,严格管控剥离液药液浓度和水洗区间清洁与改造等的联合运用,可以有效避免光刻胶的大面积残留,提高产品质量,减少重剥而降低产能Loss,同时最大限度降低对真空设备的影响。
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