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期刊论文
电镀法制备Pa测量源
电镀法制备Pa测量源
来源 :核技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wangjuan860405
【摘 要】
:
用^233Pa作示踪剂,对影响电镀Pa的主要因素(如pH值,电镀时间和电流密度等)进行了实验和讨论,用HPGe能谱仪对镀源进行测量,以确定化学效率,并在不锈钢片获得了薄而均匀的Pa镀源,其厚度为1mg/cm^2。
【作 者】
:
李宗伟
杨维凡
【机 构】
:
中国科学院近代物理研究所
【出 处】
:
核技术
【发表日期】
:
1998年1期
【关键词】
:
镤源
化学分离
电镀法
放射源
Protactinium source
Chemical separation
Electroplating γ-ener
【基金项目】
:
国家自然科学基金
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用^233Pa作示踪剂,对影响电镀Pa的主要因素(如pH值,电镀时间和电流密度等)进行了实验和讨论,用HPGe能谱仪对镀源进行测量,以确定化学效率,并在不锈钢片获得了薄而均匀的Pa镀源,其厚度为1mg/cm^2。
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