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用＾２３３Ｐａ作示踪剂，对影响电镀Ｐａ的主要因素（如ｐＨ值，电镀时间和电流密度等）进行了实验和讨论，用ＨＰＧｅ能谱仪对镀源进行测量，以确定化学效率，并在不锈钢片获得了薄而均匀的Ｐａ镀源，其厚度为１ｍｇ／ｃｍ＾２。
电镀法制备Pa测量源
【摘 要】
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用＾２３３Ｐａ作示踪剂，对影响电镀Ｐａ的主要因素（如ｐＨ值，电镀时间和电流密度等）进行了实验和讨论，用ＨＰＧｅ能谱仪对镀源进行测量，以确定化学效率，并在不锈钢片获得了薄而均匀的Ｐａ镀源，其厚度为１ｍｇ／ｃｍ＾２。
【机 构】
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中国科学院近代物理研究所
【出 处】
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核技术
【发表日期】
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1998年1期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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