【摘 要】
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TFT基板四道掩膜版工艺可提升产能,但其带来的产品品质困扰着各工厂,白点不良即为四道掩膜版工艺产生。本文通过直流实验探究了白点产生的原因;采用光照实验和高温实验,研究
【机 构】
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武汉京东方光电科技有限公司,北京京东方显示技术有限公司
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TFT基板四道掩膜版工艺可提升产能,但其带来的产品品质困扰着各工厂,白点不良即为四道掩膜版工艺产生。本文通过直流实验探究了白点产生的原因;采用光照实验和高温实验,研究了白点产生的机理,同时利用工艺调整来改善白点不良。结果表明,有源层膜质存在异常,其导电性不同导致了反冲电压(ΔV p)的差异,最佳公共电压的不同形成白点不良。栅极和源极耦合电容越小,即硅边宽度越小,白点越少,直至消失。子像素存储电容越大,钝化层厚度(PVX)由600 nm减小到400 nm,白点不良程度可减轻1个等级。通过工艺调整,将硅边宽度
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