准分子激光烧结玻璃衬底上多晶硅薄膜材料的制备

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【摘要】

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在PECVD法制备a-Si∶H薄膜材料基础上, 以XeCl准分子激光烧结为手段, 对在玻璃衬底上制备多晶硅薄膜材料的工艺条件进行了探索, 利用XRD、 SEM、 Raman光谱等分析测试手段对

【作者】

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邱法斌骆文生张玉刘传珍荆海黄锡珉

【机构】

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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所吉林长春130021北方液晶工程研究开发中心吉林长春130021,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所吉林长春130021北方液晶工程研究开发中心吉林长春130

【出处】

：

液晶与显示

【发表日期】

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2001年3期

【关键词】

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多晶硅膜准分子激光烧结玻璃衬底制备 p-Si thin film excimer-laser-annealing glass substrate p

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在PECVD法制备a-Si∶H薄膜材料基础上, 以XeCl准分子激光烧结为手段, 对在玻璃衬底上制备多晶硅薄膜材料的工艺条件进行了探索, 利用XRD、 SEM、 Raman光谱等分析测试手段对所制备材料的结构特征进行了表征. 较高的衬底温度、合适的激光能量密度和脉冲频率, 有利于获得高质量的多晶硅薄膜.

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