【摘 要】
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为提升产品品质,满足市场需求.B19采用光配向工艺(UV2A)对PI膜进行配向,其具有透过率高及广视角等优点,但其又有明显缺陷──拼接Mura(FDV曝光机名称,统称FDV Mura).通过调整Mask位置、改变PI液种类、调整照度等方法进行Mura改善研究,结果表明:通过优化Mask Y方向offset(将中心暗线调至子像素中心)、选择更为稳定的PI液(或加强曝光能量波动控制)、提升TFT侧照度或降低CF侧照度,对改善Mura效果具有较好效果.
【机 构】
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京东方科技集团股份有限公司 显示事业B19Cell部,四川 成都 610207
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为提升产品品质,满足市场需求.B19采用光配向工艺(UV2A)对PI膜进行配向,其具有透过率高及广视角等优点,但其又有明显缺陷──拼接Mura(FDV曝光机名称,统称FDV Mura).通过调整Mask位置、改变PI液种类、调整照度等方法进行Mura改善研究,结果表明:通过优化Mask Y方向offset(将中心暗线调至子像素中心)、选择更为稳定的PI液(或加强曝光能量波动控制)、提升TFT侧照度或降低CF侧照度,对改善Mura效果具有较好效果.
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