碱锰电池集流体铜钉化学抛光工艺的研究

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针对碱锰电池集流体铜钉提出了 H2SO4-NaNO3-HCI、H2O2—HNO3和添加光泽碳黑的两步浸蚀等三种化学抛光工艺,并采用多种方法评价了化学抛光后铜钉的性能,其指标包括:铜钉的接触电阻、在锌粉中的折氢量、X射线能谱(EDX)、电池短路电流、电池容量等。研究结果表明,H2SO4-NaNO3-HCI化学抛光工艺所获得的铜钉性能最好,其各项指标均优于或接近于有氰化学抛光工艺。
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