从SEMICON／WEST91看当今光刻设备的发展

来源 :光电工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：qianglongzx

【摘要】

：

本文介绍了参加SEMICON/WEST′91展览会所见到的国外光刻设备——新研制的制造亚微米器件(16Mb)用的半导体设备已面市。特别引人注目的是许多公司已推出它们的新型光刻设备—

【作者】

：

黄泽永姚汉民

【机构】

：

中国科学院光电技术研究所,中国科学院光电技术研究所成都,610209,成都,610209

【出处】

：

光电工程

【发表日期】

：

1992年3期

【关键词】

：

展览会发展光刻机 Photolithographic systems Step-and-repeat photoetching machines Pro

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本文介绍了参加SEMICON/WEST′91展览会所见到的国外光刻设备——新研制的制造亚微米器件(16Mb)用的半导体设备已面市。特别引人注目的是许多公司已推出它们的新型光刻设备——0.5～0.8μm硅片分布重复光刻机,如ASM公司的PAS-5500型,Ultratech公司的Ultrastep-2000型,GCA公司的XLS-7000系列,Canon公司的FPA-2000il型,Nikon公司的NSR2005G8i/i8A型依靠i线光刻的分步重复光刻机及用于生产64Mb及256Mb DRAM的有效使用准

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