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期刊论文
高速双极晶体管工艺条件的优化研究
高速双极晶体管工艺条件的优化研究
来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yx_maomao
【摘 要】
:
报道了一种使用深槽隔离和注入基区及快速热退火(RTA),同时为发射极扩散和Ti硅化物退火的双层多晶硅双极技术.对内基区注入、选择性注入集电极(SIC)以及RTA等主要工艺条件对
【作 者】
:
程超
海潮和
孙宝刚
【机 构】
:
中国科学院
【出 处】
:
微电子学
【发表日期】
:
2005年2期
【关键词】
:
双极晶体管
深槽隔离
选择性注入集电极
快速热退火
Bipolar transistor Trench isolation Selectively implan
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报道了一种使用深槽隔离和注入基区及快速热退火(RTA),同时为发射极扩散和Ti硅化物退火的双层多晶硅双极技术.对内基区注入、选择性注入集电极(SIC)以及RTA等主要工艺条件对器件特性的影响进行了研究和优化.根据优化结果,制作出了性能优良的高速双极晶体管.
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