铬酸钠溶液中微量铝硅杂质的脱除

来源 :过程工程学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jiangxiuli2010
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采用铝硅含量分别为189.65和51.08 mg/L的铬酸钠配制溶液,通过常压和高压反应脱除杂质微量铝硅.常压下加入偏铝酸钠调节体系铝硅元素比为6,无需CaO添加剂,60℃下反应40 min,几乎可完全脱除杂质硅;在高压釜中通过调节CO2压力为0.4 MPa,60℃下反应20 min,几乎能完全脱除杂质铝.化学纯铬酸钠脱除铝硅杂质后能达到分析纯级别.高压釜内脱铝的同时铬酸钠发生碳化反应,溶液pH值随反应进行逐渐降低,趋于稳定,显示碳化反应近于平衡.
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