【摘 要】
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热压氮化硅陶瓷样品在金属离子注入机上进行高剂量、高束流密度的Ti离子注入。注入剂量为1×1017~3×1018at/cm2。利用卢瑟福背散射(RBS)、扫描俄歇微探针(SAM)、X射线衍射(XRD)、扫
【机 构】
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清华大学化学系!北京100084,清华大学材料科学与工程系!北京100084,清华大学化学系!北京100084
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热压氮化硅陶瓷样品在金属离子注入机上进行高剂量、高束流密度的Ti离子注入。注入剂量为1×1017~3×1018at/cm2。利用卢瑟福背散射(RBS)、扫描俄歇微探针(SAM)、X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等技术对注入层的结构进行了研究。对注入后氨化硅的表面硬度和抗弯强度等力学性能进行了测试分析。结果表明,Ti离子注入对氯化硅性能影响很大,在合适的实验条件下,可以使其力学性能得到较大的改善。
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