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论述了相移光刻掩模技术和１９３ｎｍ准分子激光光刻技术的有关理论、实现方法、光学系统设计、透镜材料、光致抗蚀剂以及应用方面的研究进展。
光学光刻技术的研究进展
【摘 要】
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论述了相移光刻掩模技术和１９３ｎｍ准分子激光光刻技术的有关理论、实现方法、光学系统设计、透镜材料、光致抗蚀剂以及应用方面的研究进展。
【机 构】
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河北大学电子与信息工程系
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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1998年02期
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