Optimization of Polishing Parameters with Taguchi Method for LBO Crystal in CMP

来源 :材料科学技术学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wjx542398964

【摘要】

：

Chemical mechanical polishing(CMP)was used to polish Lithium triborate(LiB3O5 or LBO)crystal.Taguchi method was applied for optimization of the polishing parame

【作者】

：

Jun Li Yongwei Zhu Dunwen Zuo

【机构】

：

JiangsuKeyLaboratoryofPrecisionandMicro-manufacturingTechnology,BeijingCenterforCrystalResearch＆ofSc

【出处】

：

材料科学技术学报：英文版

【发表日期】

：

2009年5期

【关键词】

：

化学机械抛光 LBO晶体田口方法 CMP 优化表面粗糙度材料去除率磨料浓度 Chemical mechanical polishing （CMP） L

【基金项目】

：

AcknowledgementsThis project is supported by the National Natural Science Foundation of China （No. 50675104 and 50905086）, Six High Talent Fund of Jiangsu Province （No. 06-D-024） and Talent Fund of NU

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Chemical mechanical polishing(CMP)was used to polish Lithium triborate(LiB3O5 or LBO)crystal.Taguchi method was applied for optimization of the polishing parameters.Material removal rate(MRR)and surface roughness are considered as criteria for the optimiz

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