论文部分内容阅读
本文全面深入地分析了PtSi肖特基势垒红外焦平面阵列技术的市场前景。从制作技术、像元集成度、NETD、光响应均匀性、量子效率、成品率和成本方面把PtSi阵列与InSb和HgCdTe阵列技术作了详细的比较,评述了PtSi阵列技术的发展现状和面临的现实,分析了PtSi阵列技术的应用范围,目前面临的市场状况和可预料的今后时间内PtSi阵列技术的前景。