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本文采用超声分子束技术,以飞行时间质谱仪,在396~387nm内的紫激光作用下对四甲硅进行了多光子电离飞行时间质谱的研究,在较高在激光能量作用下检测到了Si(CH3)^+n(n=1,2,3,)、Si^+及C^+2等多种离子的信号,在较低的激光能量作用下只检测到了Si^+、C^+2等离子的信号,表明四甲基硅在不同激光能量作用下经历了不同的多光子电离过程。