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本文研究了光调制直接重写磁光多层膜的制备及其磁与磁光特性。成功研制了满足光调制直接重写要求的不同居里温度的磁光存储介质。
光调制直接重写磁光多层膜的制备及其性能研究
【摘 要】
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本文研究了光调制直接重写磁光多层膜的制备及其磁与磁光特性。成功研制了满足光调制直接重写要求的不同居里温度的磁光存储介质。
【机 构】
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华中理工大学电子科学与技术系
【出 处】
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信息记录材料
【发表日期】
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2000年1期
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