【摘 要】
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采用双室高真空磁控溅射装置在溅射功率60W和工作气压0．5Pa下直流磁控溅射沉积了调制比为1，设计调制周期18．0nm的Fe／Ti纳米多层薄膜．利用横截面透射电镜（XTEM）、差示扫描量热分析仪（D
【机 构】
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大连交通大学材料科学与工程学院,大连理工大学材料科学与工程学院
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采用双室高真空磁控溅射装置在溅射功率60W和工作气压0．5Pa下直流磁控溅射沉积了调制比为1，设计调制周期18．0nm的Fe／Ti纳米多层薄膜．利用横截面透射电镜（XTEM）、差示扫描量热分析仪（DSC）及小角和广角X射线衍射（SA／WAXRD）分析退火初期的扩散行为．实测调制周期16．2nm，原始沉积Fe／Ti纳米多层薄膜由交替生长的纳米多晶α-Fe和α-Ti组成，调制界面清晰．Fe／Ti纳米多层薄膜热失稳过程包括亚层间的扩散、金属间化合物FeTi形成和长大3个阶段．退火温度为473K时，保持与原始沉积
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