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为了制备可以在磁场中悬浮的ICF靶丸材料,采用化学镀法对PS微球包覆Ni—P合金磁性镀层,并用正交实验确定了最佳工艺条件。采用XRD、SEM、DSC、VSM分析了镀层结构、形貌以及磁性。结果表明,Ni—P镀层在PS微球表面沉积均匀,表面光滑;微球的饱和磁化强度为2.130A/m,所具有的磁性可使其在磁场中悬浮;化学镀Ni—P合金层最佳工艺条件为:ρ(NiSO4·6H2O)=40g/L,ρ(NaH2PO2)=25g/L,ρ(柠檬酸钠)=50g/L,ρH=10,温度为40℃。