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目前集成电路对微电子测量技术提出了较高要求,其中光学关键尺寸作为微电子测量中的关键,其分辨率与测量极限问题表现得较为突出。本文基于相干光技术,详细研究相干光技术在微电子光学测量中的应用,并提出一套完整的系统方案,希望为进一步提高微电子测量精准度寻找出更有效的方法。
基于相干光的微电子光学测量系统技术分析
【摘 要】
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目前集成电路对微电子测量技术提出了较高要求,其中光学关键尺寸作为微电子测量中的关键,其分辨率与测量极限问题表现得较为突出。本文基于相干光技术,详细研究相干光技术在
【机 构】
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无锡科技职业学院
【出 处】
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电子元器件与信息技术
【发表日期】
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2020年9期
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