氟化物激光晶体Nd^3+:LiYF4的坩埚下降法生长

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本文报道了氟化物激光晶体Nd^3+:LiYF4的坩埚埚下降法生长工艺,采用经氟化处理的无水氟化物原料,按照LiF:YF3=515:48.5的比例配料,控制炉体温度于920-960℃,晶体生长速度为0.4-0.8mm/h,通过密闭条件下的坩埚下降法生长出尺寸为φ25mm*80mm的完整单晶。
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