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低温多晶Si TFT—LCD技术
低温多晶Si TFT—LCD技术
来源 :真空电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qq345071009
【摘 要】
:
介绍了大面积低温多晶Si薄膜晶体管液晶显示技术的发展水平.最近,低温多晶Si薄膜晶体管业已取得很大进展,比如高质量多晶Si薄膜的受激准分子激光退火(激光再结晶)工艺,大面积
【作 者】
:
杨庆祥
【机 构】
:
安阳大学
【出 处】
:
真空电子技术
【发表日期】
:
2002年6期
【关键词】
:
低温
多晶硅
薄膜晶体管液晶显示
受激准分子激光退火
激光再结晶
簇射式化学汽相沉积
TFTLCD
Lowtemperature
Excimer laser
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介绍了大面积低温多晶Si薄膜晶体管液晶显示技术的发展水平.最近,低温多晶Si薄膜晶体管业已取得很大进展,比如高质量多晶Si薄膜的受激准分子激光退火(激光再结晶)工艺,大面积掺杂用离子掺杂工艺,以及低温原子团簇射式化学汽相沉积工艺.
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