电弧离子镀沉积Cr-O-N活性扩散阴挡层

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采用电弧离子镀技术在NiCoCrAlY涂层与高温合金基材DSMll间沉积不同成分的Cr-O-N薄膜作为扩散阻挡 层,研究了900℃下氧化1400 h后DSMll/Cr-O-N/NiCoCrAlY体系中Cr-O-N层阻挡合金元素互扩散的行为以及阻 挡层对涂层氧化动力学曲线的影响.结果表明, Cr-O-N层在高温氧化过程中生成与涂层和基材有良好结合的富Al氧化物层, 可以阻挡DSMll基体与NiCoCrAlY涂层间的元素互扩散,起到活性阻挡层的作用;Cr-O-N层中O和N含量影响生成 富Al氧化物层的连续性和致密性,从而影响其阻挡元素互扩散的性能.几种成分的Cr-O-N活性扩散阻挡层对NiCoCrAlY 涂层900℃下的高温氧化性能都有一定的改善作用,改善程度与阻挡层阻挡合金元素互扩散的程度保持一致. The Cr-ON films with different composition deposited between NiCoCrAlY coating and high temperature alloy substrate DSMll were deposited by arc ion plating technique as diffusion barrier. The effects of Cr-ON in DSMll / Cr-ON / NiCoCrAlY system after 900 h oxidation at 900 ℃ Layer on the surface of the Cr-O layer and the influence of the barrier layer on the oxidation kinetics of the coating were studied.The results show that the Cr-ON layer generates Al-rich oxide layer with good adhesion to the coating and the substrate during the high temperature oxidation process, Can block the interdiffusion of elements between the DSMll matrix and the NiCoCrAlY coating and play the role of an active barrier layer; the content of O and N in the Cr-ON layer affects the continuity and compactness of the Al-rich oxide layer, thereby affecting the barrier element The interfacial diffusion behavior of the Cr-ON active diffusion barriers of several components all improved the high-temperature oxidation performance of the NiCoCrAlY coating at 900 ℃, and the degree of improvement was consistent with that of the barrier layer interdispersing alloying elements.
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