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利用脉冲多弧离子镀技术在硅基底上沉积类金刚石薄膜．喇曼光谱和Ｘ 射线衍射分析表明：类金刚石薄膜是无定形结构；利用扫描电镜发现：类金刚石薄膜表面不光滑，石墨颗粒的大小和密度随厚度增加而增加，但薄膜致密．
脉冲多弧离子镀制备类金刚石薄膜的结构分析
【摘 要】
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利用脉冲多弧离子镀技术在硅基底上沉积类金刚石薄膜．喇曼光谱和Ｘ 射线衍射分析表明：类金刚石薄膜是无定形结构；利用扫描电镜发现：类金刚石薄膜表面不光滑，石墨颗粒的大小和密度随
【机 构】
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西安交通大学电子物理与器件研究所!陕西西安710049,西安工业学院
【出 处】
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西安工业大学学报
【发表日期】
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1999年4期
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