【摘 要】
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为了研究溅射工艺对膜一基间结合力的影响,获得成本较低、膜一基间结合较好的表层导电薄膜电磁屏蔽材料,利用磁控溅射镀膜方法在Al箔基体上溅射沉积Cu膜,采用胶粘带拉剥法测试了
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为了研究溅射工艺对膜一基间结合力的影响,获得成本较低、膜一基间结合较好的表层导电薄膜电磁屏蔽材料,利用磁控溅射镀膜方法在Al箔基体上溅射沉积Cu膜,采用胶粘带拉剥法测试了膜一基间的结合力,使用扫描电子显微镜观察了Cu膜的组织和Al/Cu的界面形貌。结果表明:溅射工艺对膜一基间的结合力有着明显的影响,镀Cu前对Al箔进行反溅射和在溅射沉积过程中对工件施加负偏压都可有效地提高膜一基间的结合力。分析认为:镀Cu前反溅射可有效地去除Al箔表面的氧化膜,使Al箔表面得到净化;在磁控溅射沉积过程中对工件施加较高负偏压
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