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本文利用透射电子显微术研究了铁电PbTiO_3薄膜中形成的锯齿状头对头180°荷电畴壁。衬度分析表明薄膜中存在高密度的180°畴。像差校正电镜研究发现180°畴壁处晶格转角呈现顺时针和逆时针交替排布,其极化呈头对头分布,且在180°畴壁处面外晶格受到压缩而面内晶格参数保持不变,进而导致了畴壁处四方度的减小,认为这种畴壁的形成是由表面或界面电荷分布不均匀导致反向c畴在该处形核长大造成。