核壳结构PMMA/CeO_2复合磨料对氧化硅片的抛光特性

来源 :常州大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:dingwenqi65118290
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磨料的种类和性质对抛光质量具有重要影响,核壳结构有机/无机复合磨料的可控制备为实现无损伤抛光提供了有益思路。本实验利用基于正负电荷间静电作用的化学原位包覆技术,设计合成了具有可控无机壳层包覆量的PMMA/CeO2复合磨料,借助红外、扫描电镜、透射电镜和热重分析等手段对样品进行表征。借助原子力显微镜分析抛光试验前后热氧化硅片衬底表面的微观形貌、粗糙度和轮廓曲线,探索了复合磨料的CeO2壳层包覆量对抛光性能的影响。电镜结果显示,复合磨料呈单分散规则球形,CeO2纳米颗粒均匀包覆在PMMA内核(280~300n
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