【摘 要】
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本文介绍了一种低温低压CVD技术——光CVD技术的原理、设备、薄膜淀积及在半导体工艺中的应用.这种技术符合半导体工艺低温化的要求,可能简化目前的半导体器件生产工艺.文中
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本文介绍了一种低温低压CVD技术——光CVD技术的原理、设备、薄膜淀积及在半导体工艺中的应用.这种技术符合半导体工艺低温化的要求,可能简化目前的半导体器件生产工艺.文中还对该技术的应用前景作了讨论.
This paper presents a principle of low-temperature and low-pressure CVD, the principle, device, deposition of thin films and its application in semiconductor technology that meets the cryogenic requirements of semiconductor processes and may simplify the current manufacturing process for semiconductor devices. The article also discusses the application prospects of the technology.
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