【摘 要】
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用射频磁控溅射制备了Fe_Ni薄膜 ,研究了薄膜成分、溅射条件及热处理温度对薄膜结构和磁性的影响 .通过选择适当的溅射条件和热处理温度 ,可得到适合于磁头材料应用的高饱和
【机 构】
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兰州大学磁性材料研究所,兰州大学磁性材料研究所 兰州730000,兰州730000
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用射频磁控溅射制备了Fe_Ni薄膜 ,研究了薄膜成分、溅射条件及热处理温度对薄膜结构和磁性的影响 .通过选择适当的溅射条件和热处理温度 ,可得到适合于磁头材料应用的高饱和磁化强度的Fe_Ni软磁薄膜 .
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