【摘 要】
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最近,普林斯顿大学(Princeton University)的研究人员在Nanotechnology《纳米技术》杂志上发表了两篇论文,介绍了他们在纳米压印光刻(NIL)领域内的重大进展,推动这项技术向着
【机 构】
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Semiconductor International 执行主编
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最近,普林斯顿大学(Princeton University)的研究人员在Nanotechnology《纳米技术》杂志上发表了两篇论文,介绍了他们在纳米压印光刻(NIL)领域内的重大进展,推动这项技术向着成为可行的、用于主流半导体制造的下一代光刻技术(NGL)选择方案迈进了几大步。
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