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通过霍尔槽试验研究氨络合物体系中杂质Zn2＋对镍电沉积的影响，采用电化学工作站测试不同Zn2＋浓度时的循环伏安曲线、稳态极化曲线及电流时间暂态曲线。结果表明：杂质Zn2＋的含量为0.1 g/L时，在小于2.78 A/dm的电流密度范围内可正常沉积出金属镍；杂质Zn2＋含量大于0.5 g/L时，在较大的电流密度范围内均无法正常沉积出金属镍；过电位小于640 mV时，Zn2＋的存在不影响阴极反应的传递系数，且不改变阴极反应机理；当过电位大于640 mV，且杂质Zn2＋的浓度大于0.5 g/L时，阴极反应的传递