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采用不同气氛等离子体处理ＰＴＦＥ／陶瓷复合介质材料，利用ＸＰＳ分析了处理样品表面成分的变化，发现等离子体处理导致表面Ｆ的含量降低和Ｏ的含量增加。高分子表面出现了不同成分的含氧基团，且随着时间的增加，微波功率的增大，－ＣＦ２基因减少，含氧基因增加，这表明不同氛等离子体与ＰＴ－ＦＥＣ表面的作用是刻蚀，脱氟，交联和氧化同时并存，其中以氧等离子体刻蚀最为严重。