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Fe_(20 ) 单层拍摄的 Ni_(80 )Fe_(20 )/Ni_(48 )Fe_(12 )Cr_(40 ) 双性人层电影和 Ni_(80 ) 被电子横梁蒸发在 SiO_2/Si (100 ) 底层上在房间温度扔。Ni_(80 )Fe_(20 )/Ni_(48 ) 的结构,磁化,和磁致电阻上的 Ni_(48 )Fe_(12 )Cr_(40 ) underlayer 的厚度的影响 Fe_(12 )Cr_(40 ) bilayerfilm 被调查。当 Ni_(80 )Fe_(20 ) 层厚度在 45 nm