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以晶片表面颗粒净增值为考量标准,研究了片盒清洗中清洗温度、干燥方式和活性剂对清洗工艺的影响,提出了较为理想的片盒清洗工艺条件。
片盒清洗技术研究
【摘 要】
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以晶片表面颗粒净增值为考量标准,研究了片盒清洗中清洗温度、干燥方式和活性剂对清洗工艺的影响,提出了较为理想的片盒清洗工艺条件。
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
【出 处】
：
电子工业专用设备
【发表日期】
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2012年4期
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