迅速发展的LCVD技术

来源 :激光技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：nimadehundan

【摘要】

：

本文简要回顾了近十年来激光ＣＶＤ（ＬＣＶＤ）技术的发展概况及其在金属、电介质和半导体薄膜生长方面的应用情况。阐明了这种新发展起来的成膜技术不仅因其生长的低温化能够给器件带来优良的

【作者】

：

王庆亚张玉书

【机构】

：

吉林大学电子工程系集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区

【出处】

：

激光技术

【发表日期】

：

1994年3期

【关键词】

：

LCVD 半导体膜激光技术 LCVD metalicfilm dielect film semiconductor film photo-chemi-cal

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本文简要回顾了近十年来激光ＣＶＤ（ＬＣＶＤ）技术的发展概况及其在金属、电介质和半导体薄膜生长方面的应用情况。阐明了这种新发展起来的成膜技术不仅因其生长的低温化能够给器件带来优良的电学特性，同时也可利用其高精度的膜厚控制特性获得新结构的材料和器件。作者还对该技术的广泛的应用前景予以展望和肯定。更多还原

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