倒置的旋转液膜反应器上底边界半封闭时流场的数值研究

来源 :北京化工大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:meganleejin
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通过数值模拟,研究了倒置的旋转液膜反应器上底边界半封闭时的流场,进一步研究了雷诺数继续增大时涡的发展和演变,并且对相应的现象给出了解释。研究结果表明,继续增大雷诺数,圆台间涡的个数奇偶交替的周期变大;当雷诺数增大到300时,圆台间最终稳定为偶数个涡,涡的个数不再发生变化。
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