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采用电弧源技术制备氧化钽薄膜,在氧气环境下对其进行热处理工艺,对比热处理前后样品特性的改变。结果显示,500℃热处理后,膜层化学计量比改变,氧元素增加,透过光谱略微漂移,膜层折射率出现不同变化,表面粗糙度略微增加,均源于热处理工艺中膜层内部粒子迁移和表面氧元素注入所致。
热处理对电弧源沉积氧化钽薄膜特性的影响研究
【摘 要】
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采用电弧源技术制备氧化钽薄膜,在氧气环境下对其进行热处理工艺,对比热处理前后样品特性的改变。结果显示,500℃热处理后,膜层化学计量比改变,氧元素增加,透过光谱略微漂移,
【机 构】
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西安工业大学
【出 处】
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黑龙江科技信息
【发表日期】
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2017年8期
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