【摘 要】
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采用射频磁控溅射和退火处理方法在普通玻璃基底制备了N、Al共掺的ZnO薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、四探针电阻测试仪和紫外-可见光光谱及X射线光电子能
【机 构】
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装备智能控制福建省高校重点实验室; 三明学院机电工程学院;
【基金项目】
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福建省自然科学基金项目(2017J01714);国家自然科学基金项目(11804189)
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采用射频磁控溅射和退火处理方法在普通玻璃基底制备了N、Al共掺的ZnO薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、四探针电阻测试仪和紫外-可见光光谱及X射线光电子能谱(XPS)等测试手段,分析了溅射功率对薄膜的表面形貌结构及光电性能的影响。研究结果表明:不同溅射功率所制备的薄膜为具有c轴择优取向的六角纤锌矿结构,在可见光范围内,平均透过率都超过了85%;在溅射功率为140W条件下,N、Al共掺的ZnO薄膜显示p型导电特性。
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