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用化学和电学研究测试了6H-SiC与元素金属(Ni,Mo)和硅化物(MoSi2,TaSi2和TiSi2)的接触特性。用俄歇电子光谱(AES)化学分析技术研究了由热处理引起的界面反应,在退火过程中,用电学测量方法(电流-电压和电容-电压)测量了整流特性或欧姆接触特性。并尽可能地计算了势垒高度及接触电阻值。