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采用化学沉淀法合成超细ＳｉＯ２，并用氮吸附静态容量法测量了样品的氮吸附等温线，计算出ＢＥＴ比表面和孔分布，用透射电镜观测了微孔的形态，对高比表面和微孔的形成进行了初步的探讨。
高比表面SiO2微粉的制备及微孔形成机理
【摘 要】
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采用化学沉淀法合成超细ＳｉＯ２，并用氮吸附静态容量法测量了样品的氮吸附等温线，计算出ＢＥＴ比表面和孔分布，用透射电镜观测了微孔的形态，对高比表面和微孔的形成进行了初步的探讨。
【机 构】
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吉林大学化学系,长春医学高等专科学校药学系
【出 处】
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吉林大学自然科学学报
【发表日期】
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1997年3期
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