超越紫外线光刻极限的新工艺

来源 :物理 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ah20090907
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在美国,由公司、政府部门、大学的技术领导人组成的半导体工业协会(SemiconductorIndustryAsociation,SIA),1992年、1994年和1997年,分别发布了15年国家半导体技术指南(roadmap).在1997年的指南中... In the United States, the Semiconductor Industry Association (SIA), a group of technology leaders from companies, government agencies and universities, released 15 years of the National Semiconductor roadmap in 1992, 1994 and 1997, respectively. In the 1997 guide ...
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