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详细介绍了目前采用旋转涂覆（Spin-on deposition）法制备硅基多孔低量薄膜材料（MSQ及HSO）的方法及技术，其次介绍了用FTIR对低介电MSO及HSQ薄膜的结构的分析，最后指出了等离子体处理对薄膜表面改性研究的主要进展以及存在的问题和今后的研究方向。
旋转涂覆法制备硅基多孔低k薄膜材料的研究进展
【摘 要】
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详细介绍了目前采用旋转涂覆（Spin-on deposition）法制备硅基多孔低量薄膜材料（MSQ及HSO）的方法及技术，其次介绍了用FTIR对低介电MSO及HSQ薄膜的结构的分析，最后指出了等离子体处理
【机 构】
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四川理工学院理学院,西北师范大学物电学院
【出 处】
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材料导报
【发表日期】
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2010年7期
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