【摘 要】
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所谓浸没式光刻技术,是在光刻机的投影镜头与硅片之间用一种液体充满,以获得更好的分辨率及增大镜头的数值孔径。今天,193nm光刻机的数值孔径为0.85左右,采用浸没式光刻技术
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所谓浸没式光刻技术,是在光刻机的投影镜头与硅片之间用一种液体充满,以获得更好的分辨率及增大镜头的数值孔径。今天,193nm光刻机的数值孔径为0.85左右,采用浸没式光刻技术后,可以将其提高到1郾0以上。2003年5月,Intel宣布放弃157nm光刻机的开发,并将193nm光刻机的功能扩展至4
The so-called immersion lithography, lithography is the projection lens and silicon filled with a liquid between, in order to obtain better resolution and increase the lens numerical aperture. Today, 193nm lithography numerical aperture of about 0.85, using immersion lithography, it can be increased to 1 郾 0 above. May 2003, Intel announced the abandon 157nm lithography machine development, and 193nm lithography machine functionality extended to 4
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