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主要研究了湿法化学刻蚀硅微尖，采用各向同性腐蚀的方法在〈１１１〉晶面和〈１００〉晶面的单昌硅衬底上制备了硅微尖。实验结果表明〈１１１〉晶面的硅衬底上容易制备顶端曲率半径比较小的硅微尖。
一步湿法化学刻蚀硅微尖冷阴极
【摘 要】
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主要研究了湿法化学刻蚀硅微尖，采用各向同性腐蚀的方法在〈１１１〉晶面和〈１００〉晶面的单昌硅衬底上制备了硅微尖。实验结果表明〈１１１〉晶面的硅衬底上容易制备顶端曲率半径比较小的硅微
【机 构】
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中国科学院长春物理研究所
【出 处】
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发光学报
【发表日期】
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1999年1期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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