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为了提高氢化锆表面微弧氧化陶瓷层的致密性及阻氢性能,采用恒压模式对氢化锆基体进行微弧氧化处理,在磷酸盐电解液体系下,研究阶段占空比分别为40%-50%-60%、50%-60%-40%和60%-50%-40%三种情况下陶瓷层的生长过程。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、膜层测厚仪分析陶瓷层的形貌、相结构及厚度;通过真空脱氢实验评价不同阶段占空比模式下获得陶瓷层的阻氢性能。研究结果表明:不同阶段占空比模式下在ZrH1.8表面可制得厚度分别为162.6、175.9、158.7μm的氧化锆陶瓷